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采購(gòu)返現(xiàn)
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| 測(cè)溫塊原理： | |||||||||||||||||||||||
| 測(cè)溫塊是由JFCC生產(chǎn)的系列化的應(yīng)用于溫度檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，它是利用了物體受熱收縮的原理進(jìn)行溫度的測(cè)量。 測(cè)溫塊的原料成分，粒度分布，胚體密度等是經(jīng)過(guò)嚴(yán)格控制的，以保障測(cè)溫塊的測(cè)量資料高度可靠。 測(cè)溫塊是由氧化鋁和其他陶瓷粉體經(jīng)壓制成型，成為塊狀。與其他陶瓷物體類似，測(cè)溫磚在受熱過(guò)程中，隨著溫度的上升，體積收縮，密度增大，直到密度達(dá)到大值為止。 |
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| 產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)： | |||||||||||||||||||||||
| 1、可簡(jiǎn)易、方便、迅速地測(cè)定爐內(nèi)三維空間各測(cè)試點(diǎn)的溫度分布，并可根據(jù)需要任意擺放在不同位置。 2、可貼近產(chǎn)品，準(zhǔn)確測(cè)定燒成制品受熱狀態(tài)，反映燒成溫度。 3、測(cè)溫一致性良好，可以保證產(chǎn)品燒成溫度的良好重現(xiàn)性，因而可判定實(shí)際燒成溫度，協(xié)助提高燒成品的成品率。 4、可任意擺放，因此可無(wú)再需對(duì)燒成品進(jìn)行破壞性試驗(yàn)，從而減少生產(chǎn)過(guò)程中的品質(zhì)控制成本。 5、準(zhǔn)確反映燒成過(guò)程中，不同位置上的實(shí)際測(cè)試溫度及不同各點(diǎn)的溫度差異。 6、對(duì)于熱電偶、光學(xué)高溫計(jì)的檢定是相當(dāng)復(fù)雜的工作，為能夠方便的掌握爐溫的準(zhǔn)確性，使用測(cè)溫磚是簡(jiǎn)單可行的。 7、與測(cè)溫磚類似的其他測(cè)溫物件有：測(cè)溫錐，但測(cè)溫錐只能測(cè)到溫度（到達(dá)溫度后錐體坍塌），并不能像測(cè)溫磚能夠測(cè)出連續(xù)的溫度值。 8、由測(cè)溫磚結(jié)果繪制品質(zhì)跟蹤圖表，方便品質(zhì)管制。 9、定期使用測(cè)溫磚檢測(cè)，有利于及早發(fā)現(xiàn)溫度異常現(xiàn)象。 10、進(jìn)行不同窯爐之間的性能對(duì)比。 11、同一窯爐，產(chǎn)品擺放位置、產(chǎn)品擺放數(shù)量差異引起的溫度差別的檢測(cè)。 |
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| 該溫度曲線是在下面的條件下得出的：升溫速度200℃/小時(shí)，保持時(shí)間2小時(shí)，降溫速度300℃/小時(shí)。日本技術(shù)陶瓷中心（JFCC）專業(yè)推薦使用； | |||||||||||||||||||||||
| 產(chǎn)品用途： | |||||||||||||||||||||||
| 用來(lái)記錄燒成品的真實(shí)燒制過(guò)程（包括輻射熱和傳導(dǎo)熱）。 用于間歇式（梭式窯、鐘罩窯）窯或連續(xù)式窯（輥道窯、隧道窯），適用于氧、氮、空氣、真空以及還原等燒成氣氛（還 原氣氛下使用須進(jìn)行預(yù)燒）。 |
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| 日本精細(xì)陶瓷研究中心測(cè)溫塊溫度對(duì)照表 ：以下數(shù)據(jù)由日本原廠提供 | |||||||||||||||||||||||
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| 使用方法： | |||||||||||||||||||||||
| 1、操作人員使用千分尺測(cè)量測(cè)溫磚的長(zhǎng)度，然后查閱同型號(hào)溫磚的對(duì)照表。對(duì)照表上列出了測(cè)溫磚的長(zhǎng)度與燒結(jié)溫度的對(duì)應(yīng)資料， 通過(guò)查閱對(duì)照表就可以知道測(cè)溫磚的燒結(jié)溫度了。 2、未使用的測(cè)溫磚應(yīng)該存放在陰涼的環(huán)境下，高溫和潮濕會(huì)使測(cè)溫磚剝蝕。 3、測(cè)溫磚表面受到堅(jiān)硬的物體擠壓后，應(yīng)小心移開擠壓物。然后用柔軟的布輕輕擦拭測(cè)溫磚表面。 4、如果爐膛氣體流動(dòng)性大時(shí)，會(huì)產(chǎn)生比在靜態(tài)氣流下更大的“物質(zhì)損失”，而造成溫磚更大的收縮。 5、在爐堂內(nèi)擺放位置不一樣，收縮程度也不一樣。 6、測(cè)溫磚上下兩個(gè)面的受熱差別過(guò)大，會(huì)造成測(cè)溫磚彎曲，彎曲方向朝向低溫一側(cè)。使用彎曲的測(cè)溫磚是無(wú)法測(cè)出準(zhǔn)確資料的，在這種情況下，在燒結(jié)前可以將測(cè)溫磚側(cè)著放以避免測(cè)溫磚彎曲。 7、在真空或少氧的氣氛下，測(cè)溫磚會(huì)產(chǎn)生MgO、ALO、SiO氣體，在這種情況下不能使用對(duì)照表。 應(yīng)注意測(cè)溫磚產(chǎn)生的揮發(fā)物是否會(huì)污染爐膛和產(chǎn)品。 8、不同的型號(hào)的測(cè)溫磚的成分不同，燒結(jié)過(guò)程中的產(chǎn)生的揮發(fā)物也不一樣，會(huì)相互污染。應(yīng)避免在同一環(huán)境下使用不同型號(hào)測(cè)溫磚。 10、測(cè)溫磚型號(hào)選擇應(yīng)該使測(cè)量溫度值盡量位于該類型測(cè)溫磚測(cè)溫范圍的中間。如果測(cè)量溫度介于兩種類型測(cè)溫磚的交匯點(diǎn)，就看結(jié)的時(shí)間。如果燒燒結(jié)時(shí)間大于2小時(shí)，則選用測(cè)溫值高的類型溫磚，相反則選用測(cè)溫值低的類型溫磚。這樣能較 好的保障測(cè)量精度。 |
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| 測(cè)溫塊成份含量及提示： | |||||||||||||||||||||||
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| 測(cè)溫塊放置方法： | |||||||||||||||||||||||
| 有時(shí)窯爐的上下，左右溫差較大、或是輻射或傳導(dǎo)熱等差異，有可能測(cè)溫塊會(huì)有燒變形情況，正確的放置將會(huì)測(cè)溫達(dá)到狀態(tài)。 | |||||||||||||||||||||||
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| ■リファサーモの基礎(chǔ)： | |||||||||||||||||||||||
| リファサーモはアルミナなどのセラミック粉末を所定の形狀に成形したもの。加熱処理すれば、一般のセラミックスと同様、昇溫にともない収縮緻密化が進(jìn)行し、ついには緻密體となります。 リファサーモを爐內(nèi)の管理したい位置にセットし、加熱処理後室溫まで冷卻してから、寸法をマイクロメータで測(cè)定します。 セラミックスの製造において、焼成工程はその品質(zhì)特性を管理するうえで非常に重要な工程です。リファサーモはこの焼成工程の管理のための総合的な熱履歴を簡(jiǎn)単かつ正確に把握するための共通熱履歴センサーです。 |
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| リファサーモを被焼成物と一緒に焼成し、焼成後の寸法を測(cè)定（右図A）することにより、焼成條件の管理狀況を把握することができます。 | |||||||||||||||||||||||
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| ■リファサーモの種類と選定方法： リファサーモの使用溫度範(fàn)囲の目安を下図に前述しましたが、使用溫度だけでは選定を誤ることがあります。 大気中2時(shí)間保持であれば、使用溫度範(fàn)囲の目安に準(zhǔn)じて選定することができます。たとえば、1350℃ならばMタイプ、1150℃ならばLタイプになります。1250℃の場(chǎng)合は、ユーザーの実際の焼成條件でMタイプとLタイプをそれぞれ焼成し、その寸法が換算表の中央に近い方のタイプを選定します。 次に、大気中で保持時(shí)間が異なる場(chǎng)合について説明します。保持時(shí)間が2時(shí)間よりも長(zhǎng)い場(chǎng)合は高溫タイプ側(cè)へ、2時(shí)間よりも短い場(chǎng)合は低溫タイプ側(cè)へ適性タイプがシフトします。たとえば、1250℃で30分保持ならば、MタイプよりもLタイプの方がより適正なタイプと考えられます。 雰囲気が大気でない場(chǎng)合、溫度と保持時(shí)間から推定し、実際にその條件でテストをする必要があります。 |
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共通熱履歴センサー管理支援ソフト |
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